LIDE工艺 - 激光诱导深度蚀刻技术可快速、精确、无缺陷地加工玻璃微结构。LIDE代表了微系统技术领域一种新的基础性加工技术。
LIDE可制作的最小孔径板厚比一般为1:10或更小,在某些条件下最高可至1:50,其加工质量、加工速度以及性价比到达了前所未有的高度,是工业量产最佳解决方案。
LPKF Vitrion系统根据用户行业需求设计,满足洁净度、安全性和自动化的所有要求。基于LIDE技术,系统能够充分执行系统功能以及工作包。并且以无与伦比的高精度、高品质针对用户不同产品的不同应用使得成本效益最大化。
LIDE - 激光诱导深度蚀刻
全面开启玻璃潜力实现创新
玻璃的物性:
耐高温和耐化学性
高强度/重量比例
各向同性
热膨胀系数可调 (CTE)
完美的绝缘体
更佳的射频性能
玻璃这种具有特殊物性的材料,适用于半导体制造中的各种应用,例如,与硅基中介板相比,玻璃中介板有着多各种优势,另外还适用于半导体封装(如 MEMS 等)。
除了其独特的物性外,玻璃种类繁多、质量高且成本相对较低,是匹配采购成本和供应链要求的首选材料。
LIDE可加工薄玻璃最小孔径板厚比为1:10或更小,在某些条件下最高可至1:50,其加工质量、加工速度以及性价比到达了前所未有的高度,具有工业量产的应对解决方案。
LIDE加工的第一步是通过单个激光脉冲对玻璃进行图形化。根据设计图形,以激光直写的方式对玻璃进行选择性激光改性,无需光刻,也无需在物理层面去除玻璃材料。在第二个工艺步骤中,整片玻璃进行各向同性的湿法蚀刻工艺,经过激光改性区域的玻璃材料的蚀刻速度远远快于未经加工的区域。 这种方式加工可在玻璃上高精度, 无缺陷的进行微结构加工, 又兼具成本优势。
LIDE技术可以实现在一个工艺步骤即可完成各种结构
使用LIDE,可以在同一工艺步骤内制作各种玻璃微结构,如TGV或盲孔、透切割,盲槽腔体,细槽以及其他结构。
LPKF Vitrion S 5000 Gen2是一款专为半导体行业批量生产而设计的系统,该设备装配了完全自动的晶圆基材上下料, 集成了自动激光工艺监控和基材对准等功能,符合SEMI行业标准。该系统可以处理从6英寸到12英寸的不同晶圆基材,并通过LIDE技术实现精确且高成本效益的半导体封装。
LPKF Vitrion M 5000 Gen2系统能够灵活处理各种尺寸、形状的玻璃基板,包括小批量样品或者全厚度玻璃基板的深微结构。设备加工空间操作舒适且无阻碍,便于手动上下大尺寸玻璃原料, 操作台面的卡盘提供了各种对准方式适用于不同形状和 尺寸的产品。基于这些加工自由度,LPKF Vitrion M 5000 Gen2 是您通过LIDE 技术进行玻璃微加工的最佳入门级激光工具。这种在玻璃基材上实现各种形状和结构加工的能力, 为半导体封装,微流控等微型结构器件提供了高精度,高质量和最具成本优势的解决方案。
LPKF Vitrion CG 5000系统的设计初衷是为下一代显示和盖板玻璃的制造。CG 5000提供全自动化玻璃基板的上下料,集成了自动激光工艺监控和多基板材加工、系统可以加工最常见的显示尺寸并提供了高精度,高品质和最具成本优势的解决方案。
LPKF Vitrion代工服务适用于任何验证类型的项目,从打样、小批量生产到大规模生产。因此,Vitrion代工可以作为客户在晶圆厂中验证集成LIDE技术或产线中集成Vitrion系统的可行性应用和研发的实验室。
LIDE制作的玻璃通孔无微裂隙、无碎屑、无热应力残存,实现可靠互联。
LIDE技术使得玻璃成为先进封装应用的新平台。玻璃大幅降低了中介板成本的可能性。
LIDE技术能够同时执行不同的需求。对于可折叠的显示屏盖板玻璃,LIDE让您同时拥有高韧性和高灵活性。
LIDE技术可以高精度地制作任何形状和尺寸的开腔和盲腔。由于LIDE技术制作的结构边缘干净、几何形状精准,也可以实现键合以及TGV 。该技术可满足节省空间的封装设计,最小棱角边缘半径为 5 μm,并且完美对准,在封装过程中实现前所未有的产能。
LIDE 技术可以精确控制位置精度,槽深等参数,并成型高深宽比的划线槽, 确保和封装结构的精确对位。 划线槽侧壁光滑,无任何其他缺陷,保证了后续制程的高良率。 LIDE技术可以在形成划线槽的同时加工完美的玻璃通孔(TGV)或其他玻璃微结构, 确保封装结构之间的电气互联和其他功能。
LIDE技术加工盖板自由度很大,可加工2D,2.5D或3D 玻璃盖板结构所需的侧壁形状。 LIDE 技术加工的侧边没有任何碎屑, 微裂纹, 这极大的增强了盖板玻璃的破碎强度, 最终提高产品良率。