与封装膨胀系数(CTE)匹配的封装基板
AMP 工艺制作CTE匹配封装基板
普通IC封装及系统级封装都需要套用到多种不同材质的原料。 这给设计者和芯片封装代工厂都造成了很多严峻的挑战,如不同材质造成的内部热应力对生产良率以及产品寿命的影响。
AMP工艺是可以有效的减少封装的这种特殊复杂性,其可以用作基板材料来减缓不同材料-芯片,金属原件等之间的不同热膨胀系数造成的应力。另外AMP是一种中等级别的互联技术, 其可以达到线宽间距(L/S) 都是25微米,TMV 的宽深比达到1:10. 从这个角度来看,AMP 是可以作为FR-4基板的替代方案。作为再布线层(RDL)的制作方式, 用于扇出型晶圆级和扇出型板级封装生产工艺中。(fo-WLP/ fo-PLP)
相对于传统的封装集成天线技术,AMP工艺拥有很多优势:
- 减少20%的封装引脚,更小的过孔和孔焊盘
- TMV 宽深比达1:10
- 更好的CTE 匹配程度:减少芯片和铜层之间的CTE 不匹配
- 嵌入式的导线,连接点,以及过孔焊点让封装整体外形统一。
活性模塑封装(amp)仅需三步工艺就可在环氧模塑表面形成RF器件
- 特殊开发的环氧模塑料(EMC),一般是颗粒料或饼料。
- 选择性在EMC表面选择性激光激活,挖槽或TMV钻孔
- 在EMC表面的激光激活部分,化学镀金属化。